舟山离子镀膜机-至成离子镀膜机制造-多弧离子镀膜机

真空磁控溅射镀膜机工艺,及人员技能选择

很多人听说过真空磁控溅射镀膜工艺，大概只知道它的做用就是镀膜，但是大家却不知道，它的镀膜原理以及流程，为什么它能镀出精美的膜，包括后期这方面的工作人员该如何选择，或者是规划自己后期的发展，各人认为，只有你对这个行业有详细的了解，这样你才能做出正确的选择。

首先给大家讲解一下真空磁控溅射镀膜机镀膜流程，让大家知道，那些漂亮的膜是怎么镀出来的。一般在在镀膜前，机器都要先抽真空，并且抽真空过程中要加热，加热的温度取决于你工件的材质3。当真空度达到高真空，一般在0.005Pa左右时，开始Ar离子轰击清洗，用电弧靶主弧轰击清洗，接着用用用电弧和磁控靶混合打底和用磁控靶打底，然后通入要镀的物质，较后降温出炉就可以了，整个镀膜的过程就完成了，很多多人，觉的镀膜工艺很繁琐，技术含量很高。其实不然，只要你弄镀膜流程和镀膜过程的应该注意的细节，然后精力投入进去，其实还是非常好上手的。很过刚入门的新人，一腔热血，想要进入镀膜行业，想要学习技术，但是却没有了解他到底想要学习什么技术。是镀膜工艺技术，镀膜设备方面的技术，很多新人对此行业了解不深，把这两者混为一谈，只是这两者是有很大区别的，尤其是刚进入行业的新人，要切记及注意。

采用PVD镀膜技术镀出的膜层有什么优势

采用PVD镀膜技术镀出的膜层，具有高硬度、高耐磨性（低摩擦系数）、很好的耐腐蚀性和化学稳定性等特点，膜层的寿命更长；同时膜层能够大幅度提高工件的外观装饰性能。PVD膜层能直接镀在不锈钢、硬质合金上、钛合金、陶瓷等表面，对锌合金、铜、铁等压铸件应先进行化学电镀铬，然后才适合镀PVD。PVD镀膜技术是一种能够真正获得微米级镀层且无污染的环保型表面处理方法，它能够制备各种单一金属膜（如铝、钛、锆、铬等）、氮化物膜（TiN[钛金]、ZrN〔锆金〕、CrN、TiAlN）和碳化物膜（TiC、TiCN），以及氧化物膜（如TiO等）。PVD镀膜膜层的厚度为微米级，厚度较薄，一般为0.1μm～5μm，其中装饰镀膜膜层的厚度一般为0.1μm~2μm，因此可以在几乎不影响工件原来尺寸的情况下提高工件表面的各种物理性能和化学性能，并能够维持工件尺寸基本不变，镀后不须再加工。

多弧离子真空镀膜机镀膜技术具有以下特点：可以任意安装使薄膜均匀。外加磁场可以改善电弧放电；使电弧细碎；旋转速度加快；细化膜层微粒；对带电粒子产生加速作用。金属离化率高，有利于薄膜的均匀性和提高附着力，是实现离子镀膜的良好工艺。一弧多用，既是蒸发源，又是预轰击净化源和离化源。

真空PVD镀膜涂层工艺冷却如何进行？

1.高阀关闭，真空计关闭，真空室与泵组隔离；

2.当操作人员按下N2vent按钮，预先接好的氮气会通过N2充气阀充入真空室，当真空室内的压力达到压力开关预设的压力时，N2充气阀关闭。

3.真空室内充入了大量N2，真空度很低，更加有利于热传导，所以降温速度比不充冷却N2时快很多，缩短冷却时间，提高生产效率，实际冷却时间可由原来的90分钟缩短为60分钟。

4.由于氦气的热传导率更高，所以充入冷却氦气比氮气降温速度更快，但是成本也更高。

5.国外设备快速冷却程序，通过冷却气体的循环冷却，能缩短冷却时间50%。

为什么要进行压升率测试？

真空环境条件是影响较终涂层质量重要的因素。镀膜前，必须进行压升率测试，以保证真空环境条件满足镀膜标准。

怎样进行压升率测试？

在我们的自动镀膜工艺中，压升率测试是自动进行。当真空室内真空度达到工艺设定的本底真空后，进入压升率测试步骤。

系统会自动关闭高阀，此时真空室与泵组隔离，真空室内压力会升高。在一定时间内（一般1分钟），如果压力不**过设定的报警值，系统会自动进行下一步程序，进入镀膜步骤。如果压力**过设定的报警值，系统会有报警提示，此时，操作人员应按照操作流程，再次进行抽真空和加热烘烤，然后重复进行压升率测试，直至压升率满足镀膜条件。