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真空镀膜机和蒸发真空镀膜机的差异

真空镀膜机是在中间设置真空室，在真空室的左右两侧设置左右大门，而在其中配装蒸发装置和磁控装置，可在该双门上预留该两装置的接口，以备需要时换装。真空镀膜机一般都是由真空系统、蒸发系统、薄膜卷绕系统、冷却系统、控制系统等主要部分组成。

当薄膜运行速度达到一定数值后，打开挡板使气态铝微粒在移动的薄膜基材表面沉积、冷却即形成一层连续而光亮的金属铝层。

通过控制金属铝的蒸发速度、基材薄膜的移动速度等来控制镀铝层的厚度，一般镀铝层厚度在250～500。而蒸发真空镀膜机是专业在塑料表面进行蒸发镀铝、鉻、一氧化硅的**设备，镀出的膜层牢固且细密，是工业化生产的理想设备，其特点是它的环保性，真空镀膜设备属于无三废、无污染的清洁生产设备，无须**审批。分为立式和卧式。

蒸发真空镀膜设备成膜速率快，膜层牢固，色泽鲜亮，膜层不易受污染，可获得致密性好、纯度高、膜厚均匀的膜层，不产生废液、废水，可避免对环境的污染，是大规模生产的理想设备。离子真空镀膜机是当今世界上用于表面涂装PVD膜层的先进**设备,运用PLC及触摸屏实现自动化逻辑程序控制操作,设备结构合理、外观优雅、性能稳定、操作达到人机对话，简便。

真空镀膜机的维修方法介绍

一、当正在镀膜时真空度突然下降：

1、蒸发源水路胶圈损环（更换胶圈）

2、坩埚被打穿（更换坩埚）

3、高压电极密封处被击穿（更换胶圈）

4、工转动密封处胶圈损坏（更换胶圈）

5、预阀突然关闭可能是二位五通阀损坏（更换二位五通阀）

6、高阀突然关闭可能是二位五通阀损坏（更换二位五通阀）

7、机械泵停机可能是继电器断开（检查继电器是否工作正常）

8、烘烤引入线电极密封处被击穿（更换胶圈）

9、挡板动密封处胶圈损坏（更换胶圈）

10、玻璃观察视镜出现裂纹、炸裂（更换玻璃）

二、长期工作的镀膜机抽真空的时间很长且达不到工作真空、恢复真空、极限真空、保真空：

1、蒸发室有很多粉尘（应清冼）

2、扩散泵很久未换油（应清冼换油）

3、前级泵反压强太大机械泵真空度太低（应清冼换油）

4、各动密封胶圈损坏（更换胶圈）

5、由于蒸发室长期温度过高使其各密封胶圈老化（更换胶圈）

6、蒸发室各引入水路密封处是否有胶圈损坏（更换胶圈）

7、各引入座螺钉、螺母有无松动现象（重新压紧）

8、高低预阀是否密封可靠（注油）

真空镀膜机蒸发与磁控溅射镀铝性能

真空镀膜机电子束蒸发与磁控溅射镀铝性能分析研究，为了获得性能良好的半导体电极Al膜，我们通过优化工艺参数，制备了一系列性能优越的Al薄膜。通过理论计算和性能测试，分析比较了真空镀膜设备电子束蒸发与磁控溅射两种方法制备Al膜的特点。

严格控制发Al膜的厚度是十分重要的，因为Al膜的厚度将直接影响Al膜的其它性能，从而影响半导体器件的可靠性。对于高反压功率管来说，它的工作电压高，电流大，没有一定厚度的金属膜会造成成单位面积Al膜上电流密度过高，易烧毁。对于一般的半导体器件，Al层偏薄，则膜的连续性较差，呈岛状或网状结构，引起压焊引线困难，造成不易压焊或压焊不牢，从而影响成品率;Al层过厚，引起光刻时图形看不清，造成腐蚀困难而且易产生边缘腐蚀和“连条”现象。

采用真空镀膜机电子束蒸发，行星机构在沉积薄膜时均匀转动，各个基片在沉积Al膜时的几率均等;行星机构的聚焦点在坩埚蒸发源处，各个基片在一定真空度下沉积速率几乎相等。采用真空镀膜机磁控溅射镀膜方法，由于沉积电流和靶电压可以控制，也即是溅射功率可以调节并控制，因此膜厚的可控性和重复性较好，并且可在较大表面上获得厚度均匀的膜层。

附着力反映了Al膜与基片之间的相互作用力，也是保证器件经久耐用的重要因素。真空镀膜设备溅射原子能量比蒸发原子能量高1-2个数量级。真空镀膜机高能量的溅射原子沉积在基片上进行的能量转换比蒸发原子高得多，产生较高的热能，部分高能量的溅射原子产生不同程度的注入现象，在基片上形成一层溅射原子与基片原了相互溶合的伪扩散层，而且，在真空镀膜设备成膜过程中基片始终在等离子区中被清洗，清除了附着力不强的溅射原子，净化基片表面，增强了溅射原子与基片的附着力，因而溅射Al膜与基片的附着力较高。