台州镀膜设备-至成镀膜设备-车灯保护膜镀膜设备

金属首饰真空镀膜机特点：

1、磁控溅射的原理是基于阴极辉光放电理论，扩大在阴极表面磁场接近工件表面，以增加溅射原子的电离率。它保留了磁控溅射的细腻和光泽度增加。2、电弧等离子体蒸发源性能可靠，能够根据工作电流30A时，优化阴极和磁场结构涂层，涂膜和基材界面产生原子扩散，再加上离子束辅助功能沉积。

应用行业：设备被广泛应用于IPG的时钟，IPS手表和钟表，的IP，手机外壳，五金，洁具，刀具，防摩擦的工具，模具和模具等，它可以制备TiN，TiCN涂层，氮化TIALN，TiNbu，TiCrN，氮化锆，各类钻石薄膜（DLC）。

模具超硬膜离子镀膜机

模具超硬膜离子镀膜机是为模具镀硬质或超硬保护膜而设计的。真空镀膜机真空镀室的真空密封和室内运动部件的设计和用材，充分考虑可承受高温，配置多只高效圆形电弧蒸发源，或配多个矩形平面电弧蒸发源，也可配多只空心阴极枪，同时配置耐冲击的、具有优异灭闪弧性能的偏压电源，保证足够等离子体密度和反应活性，提高膜层致密性和结合力。

工件可三维运动，提高膜层均匀性，全自动控制提高工艺稳定性，可镀制TiN、TiC、TiCN、TiAlN、TiAlCN、TiCrN、TiCrCN、TiAlCrN、多层超硬膜等，应用于精密模具业（冲压模具、剪切模具、标准件模具、成型模具等）、工具行业（钻头、硬质合金、铣刀、拉刀、丝锥和齿轮刀具等），汽车工业（活塞、活塞环、合金轮毂等）。

真空电镀设备膜厚的不均匀问题

无论监控仪精度怎样，它也只能控制真空室里单点位置的膜厚，一般来讲是工件架的中间位置。如果真空电镀设备此位置的膜厚不是均匀的，那么远离中心位置的基片就无法得到均匀的厚度。虽然屏蔽罩能消除表现为长期的不均匀性，但有些膜厚度的变化是由蒸发源的不稳定或膜材的不同表现而引起的，所以几乎是不可能消除的，但对真空室的结构和蒸发源的恰当选择可以使这些影响化。

在过去几年中，越来越多的用户要求镀膜系统制造厂家提供高性能的小规格、简便型光学镀膜系统，同时，用户对性能的要求不仅没有降低，反而有所提高，特别是在薄膜密度和保证吸水后光谱变化化等方面。

现在，系统的平均尺寸规格已经在降低，而应用小规格设备进行光学镀膜的生产也已经转变成为纯技术问题。因此，选用现代化光学镀膜系统的关键取决于对以下因素的认真考虑：对镀膜产品的预期性能，基片的尺寸大小和物理特性以及保证高度一致性工艺所必需的所有技术因素。